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    金剛石行業專用質量流量控制器、特氣氣路到貨!

    更新時間:2023-07-31   點擊次數:813次

    CVD(化學氣相沉積)是一種常用的材料制備技術,它可以通過在高溫下使氣體分子和表面反應來沉積材料。


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    特氣氣路面板把485站號給用戶設置好,做好保壓、氦檢,用戶拿到設備后可以直接上機使用。

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    模擬型和數字型的氣體質量流量控制器主要是通過0-5V、4-20mA信號或RS485 modbus協議,來進行數據通信,目前在PE、CVD真空設備中使用,等離子體增強化學的氣相沉積法。這種方法有很多優點,比如成膜質量好等。PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高。
    PECVD:是借助微波或射頻等使含有薄膜成分原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很。





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